23回電解プロセス研究会および第88回電解科学技術委員会

 

日時: 2012918日(火) 13:3017:00

場所: 京都大学本部キャンパス 工学部6号館363室

会場案内:http://denkai.electrochem.jp/kyodai.pdf

 

プログラム:

(1)13:30〜14:20

「溶融塩電解による高純度シリコン製造プロセスの開発」

産業技術総合研究所  大石哲雄 先生

(2)14:20〜15:10

「溶融塩からのタングステン電析技術の開発と応用」

住友電気工業  新田耕司 博士

(3)15:20〜16:10

水素/空気二次電池の開発と今後の展開

同志社大学 盛満正嗣 先生

(4)16:10〜17:00

イオン液体を用いた次世代電気めっき

大阪大学  津田哲哉 先生